博达微赞助并出席MOS-AK Shanghai Workshop

作者:卢振宇发布时间:2016-12-13浏览数:594

作为MOS-AK的早期参与者,博达微总裁李严峰先生应MOS-AK创始人Wladek Grabinski邀请,赞助并出席了626日至28日在上海微系统与信息技术研究所举办的MOS-AK Workshop,这是该活动第一次在中国举办,邀请了众多建模领域工业界及学术界的专家和资深人士,以紧凑型建模相关知识和建模技术如何支持半导体行业为主题,发表了技术趋势、行业发展和应用领域的相关主题演讲。

 

博达微总裁李严峰先生发表了《Noise Characterization, Modeling and Its Impact on Highly Scaled Designs – from 0.1Hz to MMW》精彩演讲,博得听众热烈反应与讨论。在现场展示的公司新产品低频噪声系统NC300受到业界高度关注,吸引了众多客户询问与演示需求。
 



该活动汇集了知名半导体厂,设计公司,和高校、科研院所的器件建模专家,博达微总裁李严峰与他们进行了密切探讨和交流,就行业发展及技术前瞻交换了看法,各位专家对博达微的产品和技术蓝图表示极大肯定。
 


About MOS-AK:
 

The International MOS-AK Workshop in Shanghai, China, is dedicated to advanced semiconductor devices, nanoscale electronic structures. MOS-AK modeling group and circle has more than 20 years enabling R&D exchange. For additional detailed info, please refer to MOS-AK website: 

www.mos-ak.org/shanghai_2016/